14.6億與7.6億（yì）

據cnBeta、環球網、快科技等多家媒體證實，2018年（nián）長（zhǎng）江存儲從荷蘭阿斯麥（mài）（ASML）公司（sī）訂購的一台（tái）光刻機已抵達武漢。這台光刻機價值高達（dá）7200萬（wàn）美元，約合人民幣4.6億元。

另據日（rì）經亞洲評論（lùn）（Nikkei Asian Review）報道（dào），2018年中芯國際也向（xiàng）阿（ā）斯麥下單（dān）了一台價值高達1.2億美元，即7.6億人民幣的EUV（極紫外線）光刻機。值（zhí）得一提的是，訂單價格與中芯國際17年年淨利潤（rùn）1.264億（yì）美元大致相當。這台機器預計將於2019年初交貨。據悉，這是中芯國（guó）際（jì）向荷蘭AMSL發出的第一張訂單。

荷蘭當地媒體《埃因霍溫（wēn）經濟報》報道了中芯國（guó）際的這（zhè）次購買

雖然是買別人（rén）的東西，但（dàn）是這兩條信息還（hái）是足夠令國人（rén）興奮，畢竟這種機器咱們造不出來，人家不賣給（gěi）咱們（men），自己的芯片製造就搞不定。

2什麽是光刻機？

對於普通人來說，光（guāng）刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是製造大規模集（jí）成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經過光刻技術（shù）的鍛造。

圖源：知（zhī）乎@中國科學院光電技術研（yán）究所

簡單地說，光刻機就是把工程師（shī）的設計‘印入’基（jī）底材（cái）料，其核心技術長期被荷（hé）蘭、日本、德（dé）國等把持。

光（guāng）刻機原理 圖（tú）源：知乎@看風景的蝸牛君

光刻機是芯片製造的核心設備之一（yī），按（àn）照用途可以分為好幾種：有用（yòng）於生產（chǎn）芯片的光刻機；有用於封裝的（de）光（guāng）刻機；還有用（yòng）於LED製造領域的投影光刻機。用（yòng）於（yú）生產芯片（piàn）的光刻機是中國在半導體設備製造上最（zuì）大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進（jìn）口。

3ASML：現代芯片不可或缺的支持者

目前，光刻（kè）機領域的龍頭老大是荷蘭ASML。阿斯麥公司（sī）ASML Holding NV創立於1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備製造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，於2001年改為（wéi）現用名，總部位於荷蘭費爾（ěr）德霍芬，全職雇（gù）員12,168人，是一家半導體設備設計、製造（zào）及銷售公司。

阿斯麥公司已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市（shì）場——最（zuì）先進的EUV光刻機售價（jià）曾高達（dá）1億美元一台，且全球僅僅ASML能夠生（shēng）產。Intel、台積電、三星都是它的（de）股東，重金供養ASML，並且有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻（kè）機都是買自ASML，格羅方德、聯電等晶圓廠（chǎng）的光刻機主要也是來自ASML。

上麵這個就是ASML光刻機的截麵圖，這台機器價值不（bú）菲。事實上中國的芯（xīn）片製造商們要想量產7nm及其以下的工藝的芯（xīn）片，就必須引入EUV光刻（kè）機。

阿（ā）斯（sī）麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關（guān）服務，TWINSCAN係列是目前世界上精度最高，生產效率最（zuì）高，應用最為廣泛的高端（duān）光刻機型。

目（mù）前全（quán）球絕大（dà）多數半導體生產廠（chǎng）商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例（lì）如英特爾，三星，海力士，台（tái）積電，聯電，格芯（xīn）及其它半導（dǎo）體廠。隨著摩爾定律的發展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻係統，全（quán）球隻有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

未來，隻有他的EUV光（guāng）刻機能夠（gòu）幫助芯片接續微縮，因此這些（xiē）設備縱使賣到上億歐（ōu）元，都能被客戶所接受。

接下來我們走進ASML光刻機工廠，看看世（shì）界上最貴精密儀器出廠地。

4結語

一方麵，AMSL對我們的企業商業態度轉變，由禁售到同意（yì）出售最先進的7nm光刻機，可以預計芯片水平將繼續（xù）提升。

另一方（fāng）麵，我國在光刻機領域的（de）進步也是顯著（zhe）的：

2018年5月，上海微電子宣布成功研（yán）發（fā）90納（nà）米（mǐ）的高精度光刻機（jī），半（bàn）導體業內人士分（fèn）析稱，攻克90納米（mǐ）的技術之後，拿下65和45納米就（jiù）是順理成章的事了。

2018年11月31日，官方發布（bù）消息，中國科學院光電技術研究所研製（zhì）的22納米超分辨光刻裝（zhuāng）備通（tōng）過驗收，未來將可以結合雙重曝光技術，用於製造10納米級別的芯片。

僅（jǐn）從精度的數據（jù）上看，我（wǒ）們還是落後於荷蘭ASML不少。不過（guò），看著過往的發展速度，可以相信，未來不管是光刻（kè）機還是芯片技術都會趕上來，一步一（yī）步來。