14.6億與7.6億

據cnBeta、環球網、快科技等多家媒體證實，2018年（nián）長江存儲從荷蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一台（tái）光（guāng）刻機（jī）已抵達武漢。這台（tái）光刻機價值高達7200萬美元（yuán），約合（hé）人民（mín）幣4.6億元。

另據日經亞洲評（píng）論（lùn）（Nikkei Asian Review）報（bào）道，2018年中芯（xīn）國際也向阿斯麥下（xià）單了一台價值高達1.2億美元（yuán），即（jí）7.6億人民幣的EUV（極（jí）紫外線）光刻機。值得一提的是，訂單（dān）價格與中芯國際17年年（nián）淨（jìng）利潤1.264億美元大致相當。這台機器預計將於2019年初（chū）交貨。據悉，這是中（zhōng）芯國際向荷蘭AMSL發出的第一張（zhāng）訂單。

荷蘭（lán）當地媒體（tǐ）《埃因霍（huò）溫經濟報》報道了中芯國際的這次購買

雖然是買別人的東西，但是這兩條信息還是足夠令國人興奮，畢（bì）竟這種機器咱們造不出來，人家不賣給咱們，自己的芯片製（zhì）造就搞（gǎo）不定。

2什麽是光刻機？

對於普通人來說，光刻機或（huò）許是一個陌生（shēng）的名詞，但它卻是製造大規模集成電（diàn）路的核心（xīn）裝備（bèi），每顆芯片誕生之初（chū），都要經過光刻技術的鍛造。

圖源：知乎@中（zhōng）國科學院光電技術研究所

簡（jiǎn）單地（dì）說，光刻機就（jiù）是把工程師的設計‘印入’基底材料，其核心技術長期被荷蘭、日本、德國等把持。

光刻機（jī）原理 圖源：知乎@看風景的蝸牛君

光刻機是芯片製造的核心設備之一，按照用途（tú）可以分為好幾種（zhǒng）：有用於生產芯片的（de）光刻機；有用於封裝的光刻機；還（hái）有用（yòng）於LED製造領域（yù）的（de）投影光刻機。用於生產芯片的光刻（kè）機是中國在半導（dǎo）體設備製造上最大（dà）的短板，國內晶圓廠所需的高端光（guāng）刻機完全依賴進口。

3ASML：現代芯片不可或缺的支持者（zhě）

目前，光（guāng）刻機領域的龍頭老大（dà）是荷蘭ASML。阿斯麥公司ASML Holding NV創立於1984年（nián），是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備製造商。前稱（chēng）ASM Lithography Holding N.V.，於2001年（nián）改為現（xiàn）用名（míng），總部（bù）位於荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導體設（shè）備設計、製造及銷（xiāo）售公司。

阿斯麥公司已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場——最先進的EUV光刻機售（shòu）價曾高達1億美元一台，且全球（qiú）僅（jǐn）僅（jǐn）ASML能夠生產。Intel、台積電、三星都是它的股東，重金供（gòng）養ASML，並且（qiě）有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買（mǎi）自ASML，格羅方德、聯（lián）電等晶（jīng）圓廠的光（guāng）刻（kè）機主要也是來自ASML。

上麵這個就是ASML光刻機的截麵圖，這台機器價值不菲。事實上中國的芯片製造商們要想量（liàng）產7nm及其（qí）以下的工藝的芯片，就必須引入EUV光刻機。

阿斯麥公司為半導（dǎo）體生產商提供光刻機及相關服（fú）務，TWINSCAN係列是目（mù）前世界上精（jīng）度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

目前全球絕大多數半導體生產（chǎn）廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（ěr），三星，海力士，台積電，聯電，格芯及（jí）其它半（bàn）導體廠。隨著摩爾定律的發（fā）展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻係統，全（quán）球（qiú）隻有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

未來，隻有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續微縮，因此這些設備縱使賣到上（shàng）億歐元，都（dōu）能被客戶所接受。

接下來我們走進ASML光刻機工廠（chǎng），看看世界上最貴精（jīng）密儀器（qì）出廠地。

4結語

一方麵，AMSL對我們的企業（yè）商業（yè）態度轉變，由禁售到同意出（chū）售最先進的7nm光刻機，可以預計芯片水平將繼續提升。

另一方麵，我國在光刻機領域的進步也（yě）是顯著的：

2018年5月，上海微電子宣布成功研發90納米的高精度光刻機，半（bàn）導體（tǐ）業內人士分析稱，攻克（kè）90納米的技術之後，拿下65和45納米就是順理成章的事（shì）了。

2018年11月31日，官方發布消息，中國科學院（yuàn）光電技術研究所研製的22納米超分（fèn）辨光刻裝備通過驗（yàn）收，未來將可以結合雙（shuāng）重曝光技術，用於製造10納米級別的芯片。

僅從精度的數據上看，我們（men）還是落後於荷蘭ASML不少。不過，看著過往的發展（zhǎn）速度，可以相信（xìn），未來不管（guǎn）是光刻（kè）機還是芯片技術都會趕上來，一步一步來（lái）。